藍(lán)寶石拋光液中的主要成分有：磨料、pH調(diào)節(jié)劑、表面活性劑、螯合劑等，其中，磨料是影響CMP拋光效果最重要的因素之一，它主要影響化學(xué)機(jī)械拋光中的機(jī)械作用。目前常用的磨料主要有金剛石、氧化鋁、氧化硅等單一磨料，也有氧化硅/氧化鋁混合磨料以及核殼型的復(fù)合磨料等。 氧化鋁磨料表面細(xì)膩，質(zhì)地堅(jiān)硬，耐磨性好，耐腐蝕，適用于多種材料的表面研磨拋光處理，市面上最常用的就是性能優(yōu)良的α-Al2O3磨料。氧化鋁磨料的缺點(diǎn)是分散性和選擇性較差，拋光液的粘度大，不易清洗。并且由于α-Al2O3磨料的硬度與藍(lán)寶石相近，在拋光過(guò)程中容易對(duì)工件表面造成新的損傷。但由于氧化鋁磨料的拋光速率優(yōu)于二氧化硅磨料，LED產(chǎn)業(yè)的市場(chǎng)前景廣闊。

「上海新安納」浙江新創(chuàng)納電子科技有限公司近年來(lái)從配方、工藝等多渠道，針對(duì)C向藍(lán)寶石這種超硬材料，成功解決了氧化鋁作為CMP拋光液磨料的上述種種弊端。它有高效的去除速率，拋光后的藍(lán)寶石表面缺陷較少，可以保證被拋工件有較高的良品率。尤其在拋光速率方面，氧化鋁拋光液較之前的氧化硅拋光液有顯著提升，是其速率的2倍以上。

新創(chuàng)納公司開(kāi)發(fā)的氧化鋁基藍(lán)寶石拋光液系列產(chǎn)品包括：WH-R2，WH-RG、WH-XJ1、WH-AK01、WH-A1905、WH-XJ1A、WH-AK09、WH-XJ262等。

優(yōu)點(diǎn)：

1、拋光表面質(zhì)量好，表面粗糙度Ra小于0.3nm；

2、去除效率高，拋光速率大于10μm/h；

3、拋光壽命長(zhǎng)。